磁场对阴极电弧离子镀膜特性的影响

机械加工相关

维普资讯 http://www.51wendang.com

第 2 2集 I 9 9I 1】月

中国科学院电工研究所论文报告集 Bule ̄ n ofI s i ut ec r c lEngi e l l i n t e of El i a L L ne r ng,Ac de i ni a a m a Si e

No 2 .2 Nov. 1 9 91

\

磁埸对阴极电弧离子镀膜特性的影响 研究生:任侠 摘

导师:共振华 要

本文就外磁场 (括与阴极表面平行的横向磁场和与阴极表面垂直的纵向磁场)对包阴极电孤离子镀膜特性的影响进行了研究。首先对横向磁场均匀可调的受控电弧模型源

进行了实验研究,结果表明:优化的横向磁场 .能使孤斑运动速_加快,电孤电压升度高 .膜层中液滴量可得到控制,成膜质量和沉积速率都得到提高。然后从理论上对纵向 磁场对阴极电弧离子镀中弧斑及成膜特性进行了分析.认为纵向磁场对于稳孤有一定作用,但却使膜层中液滴量增加,成膜速率及成膜质量下降,田此,在阴极电孤离子镀中.不宜采用较大的纵向磁场。在上述分析的基础上,提出了一种新型的阴极电孤离子镀蒸发源比当前广泛应用的离子豫具有明显的优越性。

言 一弧多用,可以通

真空电弧离予镀膜是近年来发展起来的一种新:膜方法,已展示出很大的经济效型镀 益和工业应用前景它比以往的离子镀膜方法有以下几个优点:①

过调节被镀工件上的偏压来实现对工件的清洗、加热和镀膜,这样就大大简化了镀膜的过程}②可以实现基本上常温蒸镀,因而扩大了可镀工件的范围③蒸发速率高并 且可调,镀氨化钛膜时能达 1 0 1 0 0 A/的沉积速率…。在相同的偏压下,可通 - 0 00 s 0过调节电弧电流的方法,较方便地改变蒸发速率 j④由于是固相直接燕镀,弧源安放

灵活 .可使真空室向积木式和组合式发展,有利于大工件和大批量镀膜⑤ 一

可以实现入射

源藕镀多元合金,制备复合膜}⑥

离化率高,一般为 5 - 7 o 0

j⑦

粒子能量高,对于钛离子能量可达 3— 8 e 0 0V,使得其成膜致密度高,强度和耐久性 好,基体

和膜界面产生了原予扩散,因而膜层的附着力较大。

真空电弧离子镀的阴极弧斑在工作时,除产生金属原予和离子外,还产生金属的液 ●■■I

滴,因而,如果处理不当,将会对成膜质量有严重的影响,这也是当前这种技术遇到的 .‘ I

最大问题。

影响液滴的因素很多,可以通过多种方法来控制。但是在工业生产中可方便控制的就是外加横向磁场国际上刚刚产生的受控电弧离子镀膜,从原理上说,就是在弧诼上

加入一适当的横向磁场,来控制阴极弧斑在阴极面上的运动。受控电弧离寻镀膜可以大 幅度地减少液滴量、减小液滴尺寸、提高膜层寿命,并使一些普通真空电弧离予镀膜 (叫自由电弧离子镀膜,弧斑在阴极表面自由地运动 )不能实现或很难实现的燕镀成又

磁场对阴极电弧离子镀膜特性的影响

Word文档免费下载Word文档免费下载:磁场对阴极电弧离子镀膜特性的影响 (共13页,当前第1页)

你可能喜欢

  • 离子的形成
  • 真空离子镀
  • 镀膜工艺
  • 磁控溅射镀膜
  • 真空技术
  • 性能研究
  • 设计范例
  • 类金刚石薄膜

磁场对阴极电弧离子镀膜特性的影响相关文档

最新文档

返回顶部