第8章 离子镀膜20131113PPT

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第8章 离子镀膜 离子镀的英文全称Ion Plating,简称IP。 它是在真空条件下,应用气体放电实现镀膜,即在 真空室中使气体或被蒸发物质电离,在气体离子或 被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物或其反应物蒸 镀在基片上。 离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发技术 结合在一起,不但显著提高了淀积薄膜的各种性能, 而且大大扩展了镀膜技术的应用范围。 与蒸发镀膜和溅射镀膜相比较,除具有二者的特点 外,还特别具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀 材料广泛等一系列优点,因此受到人们的重视。近 年来,在国内外得到迅速的发展。

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